2017台灣國際太陽光電展覽會~後記

2017台灣國際太陽光電展覽會於10月20日圓滿落幕，今年，倉和股份有限公司懷抱著無比信心與熱忱舉辦此次的展示會。這次的展會中，我們發表了最新專利技術PI取代傳統乳劑製版，並以Laser取代傳統黃光製程，藉以提高線寬精度與網印壽命等需求。

此外，外貿協會特別安排各國媒體蒞臨倉和的攤位參觀採訪；藉由國際媒體的曝光，讓更多全球產業認識台灣的優質企業。更藉由我司研發中心協理參與國際太陽能製程技術論壇，對外發表倉和近期的研究專利與成果分享，感謝各位業界先進們蒞臨我司給予建議和指導，因為您們的支持與鼓勵，使倉和20多年來不斷成長與茁壯;同時也感謝協助本次展會相關事務的所有同仁，因為有您們的參與使本次展會得以順利圓滿完成。

倉和一直以來都朝著為客戶提供最佳解決方案的目標而努力，這理念驅使我們必須不斷前進的強大動力，也期待未來持續「與您共同探索明日的網印世界」。